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双炉膛滑轨式PECVD

发布时间:2020-07-25  浏览次数:2820

设备简介:

双温区的PECVD管式炉系统,组成部分为500W的射频发生器、可定位的独立滑动式烧结炉、高精度质量流量混合系统、稳定防反油真空系统。此款PECVD可用于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜。



                         

 

                            



配置详情


主要特点:

1. 清洗镀膜一气呵成,杜绝二次污染;
2. 上开启式结构,方便观察试样;
3. 产品采用全自动控制方式,触摸屏,数字化显示;
4. 可通过炉体滑动来达到快速升温和快速降温的效果;
5. 稳定的射频电源,均匀的温度分布,提高成膜质量;

产品型号

NBD-PECVD1200-50T2-N

电气规格

AC220V 3KW   射频功率:300500 13.56Mhz

可达温度

1200 ℃ (<1小时)

连续温度

1100 ℃ (连续)

可达加热速率

20 /分钟

加热区长度

200mm+200mm(两个加热温区分别加热,分体式设计使温度梯度可以达到极限)

炉管尺寸

Φ50*1800mm

射频线圈