发布时间:2020-07-25 浏览次数:2820
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设备简介:
双温区的PECVD管式炉系统,组成部分为500W的射频发生器、可定位的独立滑动式烧结炉、高精度质量流量混合系统、稳定防反油真空系统。此款PECVD可用于生长纳米线或用CVD方法来制作各种薄膜。
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配置详情
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主要特点:
1. 清洗镀膜一气呵成,杜绝二次污染; |
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产品型号 |
NBD-PECVD1200-50T2-N |
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电气规格 |
AC220V 3KW 射频功率:300或500瓦 13.56Mhz |
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可达温度 |
1200 ℃ (<1小时) |
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连续温度 |
1100 ℃ (连续) |
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可达加热速率 |
≤20 ℃/分钟 |
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加热区长度 |
200mm+200mm(两个加热温区分别加热,分体式设计使温度梯度可以达到极限) |
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炉管尺寸 |
Φ50*1800mm |
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射频线圈 |
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